Halbleiterinspektion

Fotomaskenprüfung

Herausforderungen bei der Bewerbung

Bei der Fotomaskenprüfung kann selbst der kleinste Defekt während der Lithografie verstärkt werden und die Qualität einer ganzen Chip-Charge beeinträchtigen. Kameras müssen daher extrem hohe Auflösung und präzise Kontrastwiedergabe bieten und mit der optischen Bildgebung im tiefen Ultraviolettbereich (DUV) und im extremen Ultraviolettbereich (EUV) kompatibel sein, um den Anforderungen spezieller Prüfumgebungen gerecht zu werden. Darüber hinaus erfordert die Fotomaskenprüfung außergewöhnliche Stabilität und Langzeitkonstanz, um die Zuverlässigkeit und Reproduzierbarkeit der Ergebnisse zu gewährleisten.

3-3 Fotomaskenprüfung
8KTDI-EN

Gemini 8KTDI

Hochgeschwindigkeits-TDI-sCMOS-Kamera für tiefes Ultraviolett

Gemini 8KTDI bietet nicht nur eine deutliche Verbesserung der Empfindlichkeit in seinen wichtigsten Anwendungswellenlängen – mit Quanteneffizienzen von 63,9 % bei 266 nm und 58 % bei 355 nm im UV-Bereich sowie einem Spitzenwert von 93,4 % bei 420 nm im sichtbaren Bereich –, sondern ist auch Vorreiter bei der Implementierung der 100G-CoF-Hochgeschwindigkeitsdatenschnittstellentechnologie. Mit einer 8K-Leitungsfrequenz von bis zu 1 MHz verdoppelt sich der Gesamtdurchsatz im Vergleich zur Vorgängergeneration. Ausgestattet mit dem stabilen und zuverlässigen Kühl- und Rauschunterdrückungssystem von TUCsen unterdrückt es effektiv thermisches Rauschen im Hochgeschwindigkeitsbetrieb, minimiert Datenschwankungen und verbessert die Messgenauigkeit. Dadurch eignet es sich besonders für Front-End-Halbleiteranwendungen, die sowohl hohe Präzision als auch hohen Durchsatz erfordern.

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