inspection des semi-conducteurs

Inspection des photomasques

Défis liés à l'application

Lors du contrôle des photomasques, même le plus petit défaut peut être amplifié pendant la lithographie, compromettant ainsi la qualité d'un lot entier de puces. Les caméras doivent donc offrir une résolution extrême et une reproduction précise du contraste, ainsi qu'une compatibilité avec l'imagerie optique ultraviolette profonde (DUV) et ultraviolette extrême (EUV) afin de répondre aux exigences des environnements de contrôle spécialisés. De plus, le contrôle des photomasques requiert une stabilité exceptionnelle et une constance à long terme pour garantir la fiabilité et la reproductibilité des résultats.

Inspection des photomasques 3-3
8KTDI-EN

Gemini 8KTDI

Caméra TDI-sCMOS haute vitesse à ultraviolets profonds

Le Gemini 8KTDI offre une sensibilité nettement supérieure sur ses longueurs d'onde d'application principales, avec des rendements quantiques de 63,9 % à 266 nm et de 58 % à 355 nm dans l'UV, et un pic de 93,4 % à 420 nm dans le visible. Il inaugure également la technologie d'interface de données haut débit 100G CoF. Grâce à une fréquence de ligne 8K pouvant atteindre 1 MHz, le débit global est doublé par rapport à la génération précédente. Doté du système de refroidissement et de réduction du bruit stable et fiable de TUCsen, il supprime efficacement le bruit thermique lors du fonctionnement à haute vitesse, minimise les fluctuations de données et améliore la précision des mesures. Il est ainsi particulièrement adapté aux applications de semi-conducteurs en amont exigeant à la fois une haute précision et un débit élevé.

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