반도체 검사

포토마스크 검사

응용 프로그램의 어려움

포토마스크 검사에서는 아주 미세한 결함이라도 리소그래피 공정 중에 증폭되어 전체 칩 배치 품질을 저하시킬 수 있습니다. 따라서 특수 검사 환경의 요구 사항을 충족하기 위해서는 카메라가 극도의 해상도와 정확한 명암 재현은 물론 심자외선(DUV) 및 극자외선(EUV) 광학 이미징과의 호환성을 제공해야 합니다. 또한, 포토마스크 검사는 결과의 신뢰성과 재현성을 보장하기 위해 탁월한 안정성과 장기적인 일관성을 요구합니다.

3-3 포토마스크 검사
8KTDI-EN

제미니 8KTDI

심자외선 고속 TDI-sCMOS 카메라

Gemini 8KTDI는 핵심 응용 분야 파장 전반에 걸쳐 감도를 크게 향상시켰을 뿐만 아니라, 자외선 영역에서 266nm에서 63.9%, 355nm에서 58%의 양자 효율을, 가시광선 영역에서 420nm에서 최대 93.4%의 양자 효율을 달성했습니다. 또한 100G CoF 고속 데이터 인터페이스 기술을 최초로 적용했습니다. 최대 1MHz의 8K 라인 주파수를 통해 전체 처리량은 이전 세대 대비 두 배로 증가했습니다. TUCsen의 안정적이고 신뢰할 수 있는 냉각 및 노이즈 감소 시스템을 탑재하여 고속 동작 중 열 노이즈를 효과적으로 억제하고 데이터 변동을 최소화하며 측정 정확도를 향상시킵니다. 따라서 높은 정밀도와 높은 처리량이 모두 요구되는 프런트엔드 반도체 응용 분야에 특히 적합합니다.

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