Erausfuerderunge vun der Applikatioun
Bei der Fotomaskeninspektioun kann och dee klengsten Defekt während der Lithographie verstäerkt ginn, wat d'Qualitéit vun enger ganzer Partie Chips a Gefor bréngt. Dofir mussen d'Kameraen extrem Opléisung a präzis Kontrastreproduktioun ubidden, zesumme mat Kompatibilitéit fir déif ultraviolett (DUV) an extrem ultraviolett (EUV) optesch Bildgebung, fir de Bedierfnesser vu spezialiséierten Inspektiounsëmfeld gerecht ze ginn. Ausserdeem erfuerdert d'Fotomaskeninspektioun aussergewéinlech Stabilitéit a laangfristeg Konsistenz, fir d'Zouverlässegkeet an d'Reproduzéierbarkeet vun de Resultater ze garantéieren.
Gemini 8KTDI
Déif Ultraviolett Héichgeschwindegkeet TDI-sCMOS Kamera
De Gemini 8KTDI liwwert net nëmmen eng bedeitend Verbesserung vun der Empfindlechkeet iwwer seng Kärapplikatiounswellelängten, mat Quanteneffizienzen vun 63,9% bei 266 nm an 58% bei 355 nm am UV-Beräich, an engem Peak vun 93,4% bei 420 nm am visuelle Beräich, mee ass och Pionéier bei der Ëmsetzung vun der 100G CoF High-Speed-Dateninterfacetechnologie. Mat enger 8K-Linnfrequenz bis zu 1 MHz ass den Gesamtdurchsatz am Verglach mat der viregter Generatioun verduebelt. Ausgestatt mat dem stabile a verlässleche Kill- a Geräischreduktiounssystem vun TUCsen, ënnerdréckt en effektiv thermesche Geräischer beim High-Speed-Betrib, miniméiert Datenschwankungen a verbessert d'Miessgenauegkeet. Dëst mécht en besonnesch gëeegent fir Front-End-Halbleiterapplikatiounen, déi souwuel héich Präzisioun wéi och en héijen Duerchsatz erfuerderen.
