halvlederinspeksjon

Inspeksjon av fotomaske

Utfordringer med applikasjonen

Ved fotomaskeinspeksjon kan selv den minste feil forsterkes under litografi, noe som går utover kvaliteten på en hel batch med brikker. Kameraer må derfor tilby ekstrem oppløsning og presis kontrastgjengivelse, samt kompatibilitet for dyp ultrafiolett (DUV) og ekstrem ultrafiolett (EUV) optisk avbildning for å møte behovene i spesialiserte inspeksjonsmiljøer. Videre krever fotomaskeinspeksjon eksepsjonell stabilitet og langsiktig konsistens for å sikre pålitelighet og reproduserbarhet av resultatene.

3-3 Inspeksjon av fotomaske
8KTDI-EN

Gemini 8KTDI

Dyp ultrafiolett høyhastighets TDI-sCMOS-kamera

Gemini 8KTDI leverer ikke bare en betydelig oppgradering i følsomhet på tvers av kjernebølgelengdene i sine kjerneapplikasjoner, med kvanteeffektivitet på 63,9 % ved 266 nm og 58 % ved 355 nm i UV-området, og en topp på 93,4 % ved 420 nm i det synlige området, men er også pioner innen implementering av 100G CoF høyhastighets datagrensesnittteknologi. Med en 8K linjefrekvens på opptil 1 MHz er den totale gjennomstrømningen doblet sammenlignet med forrige generasjon. Utstyrt med TUCsens stabile og pålitelige kjøle- og støyreduksjonssystem, undertrykker den effektivt termisk støy under høyhastighetsdrift, minimerer datafluktuasjoner og forbedrer målenøyaktigheten. Dette gjør den spesielt egnet for front-end halvlederapplikasjoner som krever både høy presisjon og høy gjennomstrømning.

Våre ingeniører er her for å hjelpe – Kontakt oss

Priser og alternativer

topppeker
kodepeker
ringe
Kundeservice på nett
bunnpeker
flytekode

Priser og alternativer