inspeção de semicondutores

Inspeção de fotomáscaras

Desafios da aplicação

Na inspeção de fotomáscaras, até mesmo o menor defeito pode ser amplificado durante a litografia, comprometendo a qualidade de todo um lote de chips. Portanto, as câmeras precisam oferecer resolução extrema e reprodução precisa de contraste, além de compatibilidade com imagens ópticas em ultravioleta profundo (DUV) e ultravioleta extremo (EUV) para atender às necessidades de ambientes de inspeção especializados. Ademais, a inspeção de fotomáscaras exige estabilidade excepcional e consistência a longo prazo para garantir a confiabilidade e a reprodutibilidade dos resultados.

3-3 Inspeção de fotomáscaras
8KTDI-EN

Gemini 8KTDI

Câmera TDI-sCMOS de alta velocidade para ultravioleta profundo

O Gemini 8KTDI não só oferece uma melhoria significativa na sensibilidade em seus principais comprimentos de onda de aplicação, com eficiências quânticas de 63,9% a 266 nm e 58% a 355 nm na faixa do ultravioleta, e um pico de 93,4% a 420 nm na faixa do visível, como também inova na implementação da tecnologia de interface de dados de alta velocidade 100G CoF. Com uma frequência de linha de 8K de até 1 MHz, a taxa de transferência geral é duplicada em comparação com a geração anterior. Equipado com o sistema de resfriamento e redução de ruído estável e confiável da TUCsen, ele suprime efetivamente o ruído térmico durante a operação em alta velocidade, minimiza as flutuações de dados e melhora a precisão da medição. Isso o torna particularmente adequado para aplicações de semicondutores front-end que exigem alta precisão e alta taxa de transferência.

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