Uygulama Zorlukları
Fotomask incelemesinde, en ufak bir kusur bile litografi sırasında büyütülerek tüm çip partisinin kalitesini tehlikeye atabilir. Bu nedenle, kameraların özel inceleme ortamlarının ihtiyaçlarını karşılamak için son derece yüksek çözünürlük ve hassas kontrast üretimi sunmasının yanı sıra derin ultraviyole (DUV) ve aşırı ultraviyole (EUV) optik görüntüleme uyumluluğuna sahip olması gerekmektedir. Ayrıca, fotomask incelemesi, sonuçların güvenilirliğini ve tekrarlanabilirliğini sağlamak için olağanüstü kararlılık ve uzun vadeli tutarlılık gerektirir.
Gemini 8KTDI
Derin Ultraviyole Yüksek Hızlı TDI-sCMOS Kamera
Gemini 8KTDI, UV aralığında 266 nm'de %63,9 ve 355 nm'de %58, görünür aralıkta ise 420 nm'de %93,4'lük tepe kuantum verimliliği ile temel uygulama dalga boylarında hassasiyette önemli bir iyileştirme sağlamakla kalmaz, aynı zamanda 100G CoF yüksek hızlı veri arayüzü teknolojisinin uygulanmasında da öncü rol oynar. 1 MHz'e kadar 8K hat frekansı ile, önceki nesle kıyasla toplam verim iki katına çıkarılmıştır. TUCsen'in kararlı ve güvenilir soğutma ve gürültü azaltma sistemi ile donatılmış olan bu ürün, yüksek hızlı çalışma sırasında termal gürültüyü etkili bir şekilde bastırır, veri dalgalanmalarını en aza indirir ve ölçüm doğruluğunu artırır. Bu da onu hem yüksek hassasiyet hem de yüksek verim gerektiren ön uç yarı iletken uygulamaları için özellikle uygun hale getirir.
